TDLS200による電解プラントの微量H2O(水分)測定 -非接触測定、高速応答で連続監視-

概要

塩水電解プラントにおいて Dry 塩素塔の後に水分が含まれると、後流のコンプレッサが腐食され、また、製品品質が低下します。コンプレッサの前後にて水分を測定し、コンプレッサの腐食問題や品質低下を防止しています。
従来の五酸化リン(P2O5)電解式微量水分計は、接触式でプロセスガスを測定しているため、センサの劣化や応答時間遅れ、高メンテナンス性や高ランニングコストが問題になっています。
これらの問題を解決するのが「TDLS200 レーザガス分析計」です。

 

お客様の期待

  • 非接触測定により劣化の少ない高信頼性測定
  • 腐食性ガスでも劣化がなく測定でき、
  • メンテナンスコスト、ランニングコストを削減
  • H2O 濃度変化に高速応答・高安定測定

 

プロセス概略

塩水電解プラントで生成した塩素ガスは、Wet 塩素塔で水分を除去し、乾燥塔へ送られます。乾燥塔では、硫酸水溶液を用いて塩素ガスを乾燥させ、乾燥塩素ガスは Dry 塩素塔へ送られます。乾燥塩素ガスは Dry 塩素塔で水分が除去され、コンプレッサにて液化・製品化されます。

電解プラント

 

YOKOGAWA のソリューション

フィールドデータ

五酸化リン(P2O5)電解式と違い、 TDLS200 はサンプルの微量水分の変化に高速に応答します。

TDLS200 と P2O5 電解式水分計との応答性比較
4.91 ppm Cylinder H2O サンプルの 1 時間

TDLS200 レーザガス分析計微量水分測定の構成例

サンプリング装置によりプロセスガスをフローセルに導入し測定します。

TDLS200 微量水分計サンプリング 装置の特長

 独自のサンプリングにより、高感度測定を実現(最小レンジ 0-30 ppm)を実現
 取り外すことなしに現場校正が可能
 パージガス中の水分影響を極力低減したサンプリング装置

TDLS200
  • TDLS 本体
    TDLS200
     特注にて対応いたします。

留意点

  • ユーティリティ
    電源:100 V AC、50/60Hz
    計装空気および N2
     サンプリング盤および発光部、受光部ケース内
     パージ :計装空気 10 L/min
     レーザ光透過部パージ :N2 流量 5 L/min

業種

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