概要
塩水電解プラントにおいて Dry 塩素塔の後に水分が含まれると、後流のコンプレッサが腐食され、また、製品品質が低下します。コンプレッサの前後にて水分を測定し、コンプレッサの腐食問題や品質低下を防止しています。
従来の五酸化リン(P2O5)電解式微量水分計は、接触式でプロセスガスを測定しているため、センサの劣化や応答時間遅れ、高メンテナンス性や高ランニングコストが問題になっています。
これらの問題を解決するのが「TDLS8000 レーザガス分析計」です。
お客様の期待
- 非接触測定により劣化の少ない高信頼性測定
- 腐食性ガスでも劣化がなく測定でき、
- メンテナンスコスト、ランニングコストを削減
- H2O 濃度変化に高速応答・高安定測定
プロセス概略
塩水電解プラントで生成した塩素ガスは、Wet 塩素塔で水分を除去し、乾燥塔へ送られます。乾燥塔では、硫酸水溶液を用いて塩素ガスを乾燥させ、乾燥塩素ガスは Dry 塩素塔へ送られます。乾燥塩素ガスは Dry 塩素塔で水分が除去され、コンプレッサにて液化・製品化されます。
電解プラント
YOKOGAWA のソリューション
フィールドデータ
五酸化リン(P2O5)電解式と違い、 サンプルの微量水分の変化に高速に応答します。
TDLS と P2O5 電解式水分計との応答性比較
TDLS8000 レーザガス分析計微量水分測定の構成例
サンプリング装置によりプロセスガスをフローセルに導入し測定します。
TDLS8000 微量水分計サンプリング 装置の特長
独自のサンプリングにより、高感度測定を実現(最小レンジ 0-30 ppm)を実現
取り外すことなしに現場校正が可能
パージガス中の水分影響を極力低減したサンプリング装置
TDLS 本体
TDLS8000:特注にて対応いたします。
留意点
- ユーティリティ
電源:100 V AC、50/60Hz
計装空気および N2
サンプリング盤および発光部、受光部ケース内
パージ :計装空気 10 L/min
レーザ光透過部パージ :N2 流量 5 L/min
業種
関連製品&ソリューション
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レーザガス分析計 TDLS8000
過酷な条件下でも燃焼排ガス等のプロセスガス中のO2, CO (+CH4), H2O, NH3 (+H2O)を高精度に安定して測定します。堅牢小型で設置・維持コストを削減、燃焼排ガス NH3 脱硝プロセス、爆発防止の安全監視やプロセス不純物の上限監視など、安全操業に貢献します。
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レーザガス分析計
石油/石油化学/電力/鉄鋼などのプロセスで、O2, CO, CH4, CO2, NH3, HCL, H2O等のガス濃度を高速測定します。非接触型なので、高温高圧/腐食性・刺激性ガス/高ダスト等の過酷な条件下で安定測定を実現、堅牢な機器です。
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酸素分析計
過酷な条件下でも高精度に安定した測定が可能なレーザ分光式、燃焼管理や制御に最適なジルコニア式、可燃性ガスを含むガスでも測定可能な磁気式、リフロー炉・グローブボックスなどの雰囲気ガスを測定する低濃度酸素濃度計など安全計装のため用途に合わせたラインアップです。