半導体工場では、各製造工程で種々の薬品が使用されます。それらの中に、現像液やフッ酸溶液があります。これらは、希釈装置において、原液を規定の濃度になるよう純水で薄めて調製されますが、このときの濃度管理は導電率を測定することによって行なわれます。
電磁導電率計は、耐食性があり広い測定範囲に適用できる検出器を有しており、多くのプロセスにおいて高精度での測定が可能な導電率計です。FLXA402/FLXA202 の採用により、高い信頼性で濃度管理が行なわれています。また、FLXA402/FLXA202 は、各製造工程の廃液処理や排水の管理にも採用されています。
半導体工場では、従来、使用する各種薬品はあらかじめ使用濃度に希釈されたものを購入していました。しかし、半導体市場での価格競争激化で製造コストの大幅削減が必要となり、今日では、希釈薬品と価格に大差の無い薬品原液を購入して、自社で必要濃度に希釈し使用することが一般的になりました。
【フッ酸希釈装置】
ウェハ洗浄やエッチングで使用するフッ酸溶液の濃度は、通常2.5~5%です。購入した49%フッ酸原液に超純水を加え、所定のフッ酸濃度に調製します。
【現像液希釈装置】
現像液は、2~3%濃度のものが使用されます。この現像液は、15~20%濃度の原液を超純水で希釈して調製されます。
2 線式電磁導電率計システム
4 線式電磁導電率計システム
フッ酸の直線性
現像液の導電率と濃度の関係
FLXA402は、複数の検出器が接続可能であり、pH/ORP計、導電率計、電磁導電率計、溶存酸素計から検出器を選択できます。優れた操作性や機能を兼ね備えると同時に、HARTやModbus通信による拡張性にも富んでおり、IIoT環境の構築にも貢献、設置・運用コストの削減を提案します。
汚れ・磨耗・腐食の対策が必要なアプリケーションでも高精度で導電率を測定します。
測定可能範囲:1 μS/cm~1999 mS/cm
プロセス温度:-10~130°C