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YOKOGAWA

横河電機株式会社

次世代半導体生産向装置・プロセス制御国際技術シンポジウム

AEC/APC Symposium Asia 2007

AEC/APC Symposium(AEC: Advanced Equipment Control APC: Advanced Process Control)は、 半導体メーカーと装置、材料、ソフトウエア、センサー、メトロロジーメーカーが一堂に会し、装置・プロセスの自動診断・最適化などを通じて、 よりインテリジェントで高効率な生産システムの構築を議論する場を提供するシンポジウムです。

AEC/APC Symposium Asia 2007は終了いたしました。
2007年11月29日(木)~11月30日(金)、ホテル日航熊本で開催されました「AEC/APC Symposium Asia 2007」に出展いたしました。

併設の展示ブース ネットワーキングセッション「装置・プロセスFDCと予測(FD)」では、 ウェハレベルのトラッキング情報を活用し、ウェハの位置情報と歩留の関係に着目した解析ツール、 装置エンジニアリングシステム(EES)を中心にご紹介させていただきました。

開催当日は多くのお客様にご来場いただき、貴重なご意見・ご要望などを頂戴することができました。
この場をお借りし厚く御礼申し上げます。
2007年12月
横河電機株式会社
展示内容

ウェハの位置(キャリア内の位置、処理順、処理チャンバ)と歩留の関係に着目した 解析システム「Wafer Sleuth」 をご紹介させていただきました。Wafer Sleuth はウェハの位置を意図的に変更することにより、数多くの装置、工程の中から問題を顕在化するユニークなシステムです。ウェハの位置などの処理情報、歩留り情報およびTEG 電気特性などの情報を統合解析することにより、Fab ワイドFDC への展開を実現します。

更に、SEMIスタンダードに準拠した、EESパッケージである「e-fabDoctor」シリーズも同時にご紹介させていただきました。今回のご紹介では、EESの基本機能である、EDA(Interface-A)完全準拠のPassportやデータベース部分のEEManagerおよびデータビューアであるFinderもご紹介させていただきました。

また、ソリューションパッケージである 異常検出アプリケーションについても同時に出展させていただきました。

出展製品 :  半導体業種向け歩留改善支援システム Wafer Sleuth
半導体製造装置EESプラットフォーム e-fabDoctor
   
 ● 日 時   2007年11月29日(木)~30日(金)
 ● 場 所   ホテル日航熊本 (ネットワーキングセッション会場 : 天草)
 ● 出展ブース   1005
 ● 主 催   ISMI  : International SEMATECH Manufacturing Initiative
ISSM : INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR
      MANUFACTURING
 
AEC/APC Symposium Asia 2007 の公式サイトはこちら
AEC/APC Symposium Asia 2007 公式サイト

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